Предложение о сотрудничестве
Центр коллективного пользования Кубанского госуниверситета приглашает к сотрудничеству научные коллективы, отдельных исследователей, аспирантов и студентов вузов и организаций, осуществляющих научные исследования, заинтересованные предприятия промышленности и агропромышленного комплекса Кубани к совместному использованию следующего оборудования:
- Установка для осаждения тонких пленок «CCR Copra Cube ISSA»
- Метод: ионно-лучевое осаждение
- Возможность осаждения слоев с минимальной толщиной слоя 0,8—1 нм
- Размер подложки — 10 см минимум
- Возможность осаждения диэлектрических, металлических и полупроводниковых материалов. Неизменность стехиометрии материала мишени в процессе осаждения (для напыления сплавов и др.)
- Неравномерность покрытии — 3% макс.
- Наличие дополнительного ионного источника для очистки поверхности подложки
- Наличие системы ввода реакционного газа
- Возможность использования различных рабочих газов
- Количество мишеней — 3
- Модуль вакуумного осаждения «AUTO 500»
- Метод: термическое (резистивное) напыление различных материалов
- специализированный термический испаритель для органических соединений, максимальная температура испарения не менее 600 °С
- 2 резистивных испарителя общего назначения, максимальная температура испарения не менее 1700 °С
- нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев
- Диапазон температур нагрева подложек не хуже: 50…250 °С
- Возможность нанесения в одном технологическом процессе (без остановки и перегрузки) множественных чередующихся слоев металлов и органических материалов
- Система контроля толщины напыляемых слоев на основе кварцевых резонаторов
- Подложке держатель карусельного типа с приводом вращения
- Спектрометр ядерного магнитного резонанса «JNM-ECA400»
- Магнитное поле 9,39 Т
- Рабочая частота 400 МГц для ‘Н
- Рабочий диапазон частот не хуже 10—430 МГц
- Область рабочих температур не менее −140С — +180С, точность поддержания температуры не хуже 0,1 °С:
- Передающий тракт: цифровой синтез частот.
- Приемный тракт: полностью цифровой, квадратурная регистрация, АЦП не хуже 16 бит, 2 МГц Возможность работы с инверсными датчиками
- Различные датчики.
- Спектрометр электронного парамагнитного резонанса «JES-FA300 ESR»
- Чувствительность: не хуже 7×109/10−4 Тл {при модуляции 100 кГц)
- Разрешение: не хуже 2,35 мкТл (при модуляции 100 кГц)
- Диапазон СВЧ: X (9000 МГц)
- Точность установки частоты: 7 порядков
- Диапазон выходной мощности: от 0,1 мкВт до 200 мВт
- Диапазон изменения магнитного поля: от 0 до 2 Тл
- Точность установки: 2 мкТл
- Амплитуда развёртки: от ±0.01 до ±500 мТл
- Линейность: ±5 мкТл или ±0.1% и лучше
- Частота модуляции магнитного поля: 100 кГц, желательно дополнительно 80 Гц
- Глубина модуляции магнитного поля: от 0,2 мкТл до 2 мТл (при модуляции 100 кГц)
- Сканирующий зондовый микроскоп — модель «JEOL JSPM 5400»
- Метод: атомно-силовая микроскопия
- Контактный, полуконтактный, бесконтактный режимы, включающие в себя магнитно-силовую микроскопию, электросиловую микроскопию, SKPM, диссипативную силовую микроскопию, латерально-силовую микроскопию, фазовую спектроскопию, силовую спектроскопию, функции наноманипулирования и нанолитографии
- Метод: сканирующая туннельная микроскопия
- разрешение в плоскости XY — не хуже 0,1 нм
- разрешение в оси Z — не хуже 0,01 нм
- поле сканирования в плоскости XY — не менее 9 мкм (для режима высокого разрешения)
- возможность проведения исследований в вакууме
- позволяет исследовать образцы как с проводящей, так и с непроводящей поверхностью
- Растровый электронный микроскоп сверхвысокого разрешения «JSM-7500F»
- разрешающая способность: Не хуже 1 нм при 15 кВ, не хуже 2,1 нм при 1 кВ
- увеличение в диапазоне от 25× до 900.000×
- рабочий диапазон ускоряющих напряжений от 100 В до 30 кВ;
- использует детекторы: вторичных электронов, отраженных электронов, ЗТЕМ-детектор, энергодисперсионный детектор.
- система микроанализа состава отдельных образцов.
- Система для нанесения тонких пленок по технологии Лэнгмюра-Блоджетт
- нанесение мономолекулярных пленок на поверхность твердых образцов (подложек)
- формирования полимолекулярных пленок с использованием соответствующей послойной методики.
- Двухлучевой спектрофотометр «U-2900 Hitachi»
- исследование электронных спектров поглощения в видимой и ультрафиолетовой области в диапазоне 190—1100 нм.
Дополнительную информацию можно получить по тел. (861) 219-96-18, эл. почта: nanotech@kubstu.ru. Рубцов Геннадий Павлович. (моб. тел. +7 988 248-30-90).
НОЦ «Диагностика структуры и свойств наноматериалов» — центр коллективного пользования.